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產(chǎn)品|公司|采購|招標(biāo)

廣電計(jì)量檢測集團(tuán)股份有限公司

Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時(shí)間2018/9/25 11:23:02
  • 訪問次數(shù)571
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First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(xué)(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司中國代表處,負(fù)責(zé)中國區(qū)業(yè)務(wù)

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司,更好的為中國南方區(qū)市場

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產(chǎn)品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

 

光學(xué)透鏡和儀器,實(shí)驗(yàn)室器具,專用儀器儀表,電化學(xué)設(shè)備和部件
Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)
Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù),在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應(yīng)線圈,周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時(shí),會發(fā)生化學(xué)反應(yīng),然后在襯底表面沉積一層薄膜.

該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機(jī)物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。            

射頻可通過Chuck改變薄膜性能。            

該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。

Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù),在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應(yīng)線圈,周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時(shí),會發(fā)生化學(xué)反應(yīng),然后在襯底表面沉積一層薄膜.

該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機(jī)物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。            

射頻可通過Chuck改變薄膜性能。            

該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。

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