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SICK光柵制作方法具體有哪些

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    SICK光柵制作方法具體有哪些
    SICK光柵所謂光纖中的光折變是指激光通過光敏光纖時(shí),光纖的折射率將隨光強(qiáng)的空間分布發(fā)生相應(yīng)的變化,如這種折射率變化呈現(xiàn)周期性分布,并被保存下來,就成為光纖光柵。 光纖中的折射率改變量與許多參數(shù)有關(guān),如照射波長、光纖類型、摻雜水平等。如果不進(jìn)行其它處理,直接用紫外光照射光纖,折射率增加僅為(10的負(fù)4次方)數(shù)量級(jí)便已經(jīng)飽和,為了滿足高速通信的需要,提高光纖光敏性日益重要,光纖增敏方法主要有以下幾種:
    1)摻入光敏性雜質(zhì),如:鍺、錫、硼等。
    2)多種摻雜(主要是B/Ge共接)。
    3)高壓低溫氫氣擴(kuò)散處理。
    4)劇火。
    SICK光柵的光致折射率變化的光敏性主要表現(xiàn)在244nm紫外光的錯(cuò)吸收峰附近,因此除駐波法用488nm可見光外,成柵光源都是紫外光。大部分成柵方法是利用激光束的空間干涉條紋,所以成柵光源的空間相干性特別重要。主要的成柵光源有、窄線寬、倍頻Ar 離子激光器、倍頻染料激光器、倍頻OPO激光器等,根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果,窄線寬是目前用來制作光纖光柵zui為適宜的光源。它可同時(shí)提供193nm和 244nm兩種有效的寫入波長并有很高的單脈沖能量,可在光敏性較弱的光纖上寫人光柵并實(shí)現(xiàn)光纖光柵制作。
    SICK光柵制作方法中的駐波法及光纖表面損傷刻蝕法,成柵條件苛刻,成品率低,使用受到限制。主要的成柵有下列幾種。
    1)短周期光纖光柵的制作
    a)內(nèi)部寫入法 內(nèi)部寫入法又稱駐波法。將波長488nm的基模氛離子激光從一個(gè)端面耦合到鍺摻雜光纖中,經(jīng)過光纖另一端面反射鏡的反射,使光纖中的入射和反射激光相干涉形成駐波。由于纖芯材料具有光敏性,其折射率發(fā)生相應(yīng)的周期變化,于是形成了與干涉周期一樣的立體折射率光柵,它起到了Bragg反射器的作用。已測得其反射率可達(dá)90%以上,反射帶寬小于200MHZ。此方法是早期使用的,由于實(shí)驗(yàn)要求在特制鍺摻雜光纖中進(jìn)行,要求鍺含量很高,芯徑很小,并且上述方法只能夠制作布拉格波長與寫入波長相同的光纖光柵,因此,這種光柵幾乎無法獲得任何有的應(yīng)用,很少被采用。用準(zhǔn)分子激光干涉的方法,Meltz等人制作了橫向側(cè)面曝光的光纖光柵。用兩束相干紫外光束在接錯(cuò)光纖的側(cè)面相干,形成干涉圖,利用光纖材料的光敏性形成光纖光柵。柵距周期由 ∧=λuv/(2sinθ)給出??梢?,通過改變?nèi)松涔獠ㄩL或兩相干光束之間的夾角,可以改變光柵常數(shù),獲得適宜的光纖光柵。但是要得到高反射率的光柵,則對所用光源及周圍環(huán)境有較高的要求。這種光柵制造方法采用多脈沖曝光技術(shù),光柵性質(zhì)可以控制,但是容易受機(jī)械震動(dòng)或溫度漂移的影響,并且不易制作具有復(fù)雜截面的光纖光柵,這種方法使用不多。

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