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技術(shù)中心

自動(dòng)電位滴定儀CT-1PLUS測(cè)定混酸含量

2025年04月18日 17:12:30人氣:44來(lái)源:上海禾工科學(xué)儀器有限公司

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關(guān) 鍵 詞電化學(xué)儀器,電位滴定儀,自動(dòng)電位滴定儀,滴定儀,全自動(dòng)滴定儀
【資料簡(jiǎn)介】

關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體/硅蝕刻/蝕刻液

行業(yè):半導(dǎo)體/蝕刻液


CT-1Plus自動(dòng)電位滴定儀測(cè)定混酸含量——硝酸氫氟酸


摘要

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,刻蝕技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微電子器件精細(xì)加工的關(guān)鍵步驟之一。半導(dǎo)體濕法刻蝕工藝,簡(jiǎn)稱濕法刻蝕,是一種通過(guò)化學(xué)溶液來(lái)去除晶圓表面特定材料層的技術(shù)。這種工藝?yán)没瘜W(xué)反應(yīng)來(lái)精確地控制材料的形狀和尺寸,以滿足半導(dǎo)體器件的制造要求。本文主要介紹通過(guò)CT-1Plus自動(dòng)電位滴定儀來(lái)測(cè)試硝酸/氫氟酸蝕刻液體系的含量。


儀器配置

●CT-1Plus電位滴定儀

●pH102電極(or銻電極)

●20mL高精度計(jì)量管

●100mL滴定杯試劑配置

●滴定劑:氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液

●滴定度:0.5111mol/L

●溶劑


測(cè)定方法

●酸堿滴定/電位滴定

●稱取適量試樣于燒杯中,加50mL溶劑溶解,攪拌均勻,插入電極,選用蝕刻液測(cè)試方法,用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定到終點(diǎn)


儀器參數(shù)

● 最小滴定體積:10μL  

● 最大滴定體積:100μL

● 攪拌速度:200        

● 每滴間隔:1500ms

● 終點(diǎn)模式:微分判定   

● 微分設(shè)置:200


測(cè)試數(shù)據(jù)

● 環(huán)境溫度:20℃ ● 環(huán)境濕度:46%  

● 測(cè)試時(shí)間:2min  

測(cè)試結(jié)果:經(jīng)測(cè)試,蝕刻液的硝酸濃度約為20.72%,氫氟酸濃度約為5.17%。

上海禾工科學(xué)儀器有限公司作者

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